2026-06-29 08:25:28
荷蘭專家表示,ASML 的 EUV 微影技術仍是中國半導體發展中的「最難跨越的障礙」。
根據《Het Nieuwe Rijnmond》記者 Marc Hijink 的報導,中國半導體產業面臨最重大技術瓶頸在於極紫外光(EUV)微影設備,該設備目前僅由荷蘭設備巨頭 ASML 獨家製造,且無替代技術可用。 Hijink 指出,ASML 花費約 15 年時間,從實驗室原理發展到量產 EUV 技術,整合了複雜的光源與精密製造能力。日本競爭對手 Nikon 雖投入超過 1000 億日元進行 EUV 研發,但未能產出商業化可行設備,最終退出市場。與此同時,中國投入多年研究 EUV 並取得專利,但至今仍無商業化量產設備。Hijink 強調,在當前出口管制下,EUV 開發對中國企業而言是一片技術「無人區」,其所需的資源集中程度非任何單一企業所能輕易複製。